Höchstleistung bei ICP-OES-Spektrometern wird neu definiert

Überall dort, wo sich in Industrie oder Wissenschaft besonders hohe Anforderungen in der Elementanalytik stellen, spielt das SPECTRO ARCOS seine Überlegenheit aus. Ob bei der Elementanalytik von Metallen, bei der Untersuchung chemischer und petrochemischer Substanzen oder in der Umweltanalytik: Wenn es auf höchste Empfindlichkeit und höchste Präzision ankommt, ist das SPECTRO ARCOS das Gerät der Wahl.

Das einzigartige MultiView-Plasma-Interface erlaubt sowohl die axiale wie die radiale Betrachtung des Plasmas – mit nur einem Gerät. Mit der Periskop-freien MultiView Option hat das SPECTRO ARCOS den Geräte-Grundaufbau fundamental verändert. In weniger als 90 Sekunden lässt sich die Plasma-Betrachtungsrichtung ändern. Von radial nach axial oder umgekehrt.

Mit dem Generator des SPECTRO ARCOS beginnt ein neues Zeitalter der Plasmaerzeugung. Diese Kraftquelle basiert auf der Lateral Diffundierten Metall-Oxid-Halbleiter-Technologie (LDMOS). Das SPECTRO ARCOS ist das erste ICP-OES Gerät, in dem dieser extrem leistungsstarke, digital angesteuerte Halbleiter-Generator eingesetzt wird.